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      高純石英砂晶格雜質(zhì)去除方法——氯化焙燒!
      來(lái)源:中國粉體技術(shù)網(wǎng)    更新時(shí)間:2017-09-04 08:49:51    瀏覽次數:
       
        目前,氯化焙燒是去除石英晶格雜質(zhì)的主要方法,不同的氯化劑與晶格雜質(zhì)作用方式和效果存在較大差異。

        1、石英砂氯化焙燒試驗
        以酸浸后的青海脈石英為原料,進(jìn)行氯化焙燒試驗,其石英砂主要雜質(zhì)元素含量如下:

      表1 石英砂的主要雜質(zhì)含量
      高純石英砂晶格雜質(zhì)去除方法——氯化焙燒!
       
        試驗方案:為保證充分的氯化氣氛,每次試驗稱(chēng)取約0.5g的NH4C1,在SiO2純度高于99.99%的石英舟內與5g石英砂混合均勻,置于管式爐中央,焙燒前通潔凈N2趕凈空氣,臨近焙燒時(shí)間結束時(shí)將溫度升至1273.15K并保持10分鐘,再以潔凈N2排凈焙燒尾氣,氯化焙燒過(guò)程中產(chǎn)生的有害尾氣先依次通過(guò)堿溶液和酸液進(jìn)行吸收處理。
        在氯化劑濃度保證充分過(guò)量的情況下,考察氯化焙燒的溫度和時(shí)長(cháng)對提純效果的影響。

        2、溫度對石英氯化焙燒提純效果的影響
        
      溫度對石英氯化焙燒提純效果的影響
      圖1 氯化溫度對石英提純效果的影響
       
        由圖1可知:氯化焙燒溫度越高,石英砂中雜質(zhì)元素的減少量呈拋物線(xiàn)型增大。當溫度高于450℃后,Fe、Ti元素含量迅速降低,而溫度升高至600℃時(shí),Al、K元素含量才開(kāi)始明顯減少。氯化溫度在600℃時(shí),石英砂內主要雜質(zhì)元素含量較低,提純效果較好。

        3、時(shí)間對石英氯化焙燒提純效果的影響
        
      時(shí)間對石英氯化焙燒提純效果的影響
      圖2  氯化時(shí)間對石英提純效果的影響
       
        由圖2可知,隨著(zhù)氯化焙燒時(shí)間的延長(cháng),石英砂中雜質(zhì)元素的逐漸降低,當焙燒時(shí)間達到120min以上趨于穩定。相對來(lái)講,當NH4Cl高溫焙燒的時(shí)間在180min時(shí),Fe、K元素含量有明顯降低,Al、Ti元素含量也有所減少,提純效果較好。

        4、石英氯化焙燒最佳工藝條件
        當NH4Cl氯化焙燒溫度在600℃,時(shí)間在180min時(shí),Al、Fe、K、Ti四種主要雜質(zhì)元素的含量由153×10-6降低至31.07×10-6,對石英砂的提純效果較為顯著(zhù)。

        5、機理分析
        熔融階段(Melting):NH4Cl在溫度不斷升高的過(guò)程中,先后經(jīng)歷熔點(diǎn)和沸點(diǎn)而發(fā)生熔融或揮發(fā),熔融時(shí)可電離為NH4+和Cl-,與石英表面充分接觸并作用。
        反應階段(Reacting):石英晶格中的氧幾乎全為惰性氧,但在發(fā)生異價(jià)類(lèi)質(zhì)同象的位置,出現帶有部分剩余電荷的活性氧,石英表面的活性氧與NH4Cl熔融電離的NH4+作用時(shí),易被奪取并反應生成NH3和H2O,則晶格內的代替Si4+的雜質(zhì)離子(Al3+、B3+、Fe3+等)及晶格空隙中相應起電荷補償作用的陽(yáng)離子(K+、Li+、Na+等)立即轉變?yōu)橛坞x態(tài),與Cl-或HCl反應生成AlCl3等金屬氯化物。
        石英晶格內部的熱缺陷在高溫熱振動(dòng)下處于不斷產(chǎn)生與復合的動(dòng)態(tài)平衡中,缺陷的遷移運動(dòng)原本是完全無(wú)序的,由于石英表面的雜質(zhì)離子不斷被NH4Cl熔融電離的NH4+和Cl-捕獲而脫離晶格,在石英表面和內部形成了濃度梯度,在這種外力場(chǎng)的作用下,石英內部的熱缺陷緩慢的朝表面定向運動(dòng),有利于石英內部的雜質(zhì)缺陷逐漸減少。
        逸出階段(Escaping):反應階段生成的氨氣、水和部分沸點(diǎn)低于焙燒溫度的金屬氯化物揮發(fā)逸出石英表面并向體系內擴散,導致石英表面生成物的濃度處于較低的水平,利于反應的平衡右移。
        
      NH4Cl焙燒提純石英晶格雜質(zhì)反應機理示意圖
      圖3 NH4Cl焙燒提純石英晶格雜質(zhì)反應機理示意圖
        6、結論
        受限于熱缺陷的遷移迷率和其他因素,石英砂內部產(chǎn)生的肖特基缺陷很難完全遷移至表面,而石英砂表面或近表面的晶格雜質(zhì)可能在氯化焙燒過(guò)程中得到凈化。

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