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      技術(shù)進(jìn)展
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      石英晶體中的雜質(zhì)元素及賦存狀態(tài)
      來(lái)源:中國粉體技術(shù)網(wǎng)    更新時(shí)間:2021-12-02 15:40:51    瀏覽次數:
       
        石英理論化學(xué)組成是SiO2,但是在自然界不存在純SiO2石英。石英或多或少都包含一些雜質(zhì)元素(如Al、Ti、K、Na、Ge等),其種類(lèi)和含量與晶出石英時(shí)的熔/流體和外界環(huán)境與結晶后受到的改造有關(guān)。在石英晶體內部,雜質(zhì)元素的賦存形式包括(按尺度由小到大):晶格雜質(zhì)元素(晶格尺度)、亞微米級(100nm~1μm)和納米級(<100nm)包裹體,以及顯微包裹體(>1μm)。
        
        1、晶格雜質(zhì)元素(晶格尺度)
        石英晶格雜質(zhì)與石英晶體的點(diǎn)缺陷密切相關(guān)。石英晶體的點(diǎn)缺陷包括空位、置換原子和間隙原子三種,其中能引入雜質(zhì)元素的主要是后兩者。外來(lái)的離子(如P5+、Ti4+、Ge4+、Al3+、Fe3+、B3+等)通過(guò)置換Si4+,占據Si4+的位置,形成置換雜質(zhì)元素;同時(shí),某些離子(如Al3+、Fe3+等)在置換Si4+時(shí),為了保持電價(jià)平衡,還會(huì )在原子間引入Na+、K+等電價(jià)補償離子,為間隙雜質(zhì)元素。
        
        2、亞微米級(100nm~1μm)和納米級(<100nm)包裹體
        石英中亞微米級(100nm~1μm)和納米級(<100nm)包裹體的尺寸很小,需要借助掃描電子顯微鏡和透射電子顯微鏡才能觀(guān)察到它們的形貌和在石英晶體中的分布。目前,對這類(lèi)亞微米級(100nm~1μm)和納米級(<100nm)包裹體的研究很少,主要集中在有色石英,特別是藍色的巖漿石英。
        
        因此,現在不確定這類(lèi)包裹體在一般石英晶體中的含量與分布如何。迄今為止,觀(guān)察到的亞微米級包裹體包括金紅石、銳鈦礦、云母、電氣石和Al-Si相礦物(可能代表Al2SiO5同質(zhì)多象體、AlOOH或剛玉)。
        
        Müller等研究認為,亞微米級包裹體可能在特定的結晶環(huán)境下形成。當它們出現時(shí),由于包含眾多的雜質(zhì)元素(具體雜質(zhì)元素視亞微米級礦物種類(lèi)而定),將會(huì )降低石英的純凈度,會(huì )成為石英的污染源之一。石英中亞微米級和納米級包裹體需要進(jìn)一步的系統研究,以查明它們的成因、分布及其對石英純度的影響。
        
        3、礦物、熔體和流體包裹體(>1μm)
        天然的石英晶體通常包含流體、硅酸鹽熔體和礦物包裹體(>1μm),這些包裹體可以在普通的光學(xué)顯微鏡下觀(guān)察。包裹的種類(lèi)和豐度取決于結晶環(huán)境、結晶后的蝕變和變形。如果在石英晶體中包裹體大量存在,那么它們會(huì )對石英原材料的化學(xué)純度和質(zhì)量有很大影響。
        
        流體包裹體是石英中最常見(jiàn)、最豐富的包裹體。它們既可以在石英晶體生長(cháng)時(shí),為石英所捕獲,形成原生流體包裹體;也可以在后期流體沿石英的微裂縫滲透、石英晶體愈合時(shí)形成,稱(chēng)之為次生包裹體。
        
        硅酸鹽熔體包裹體常常出現在巖漿巖,常表現為小的玻璃質(zhì)或結晶質(zhì)“氣泡”(約1~300μm)。相比于流體包裹體,它們在石英晶體中的數量相對稀少。熔體包裹體的成分與石英捕獲的硅酸鹽熔體成分相對應,主要由Si、Al、Fe、Ca、Na和K等組成。在巖漿演化晚期形成的偉晶巖中,石英中的熔體包裹體常常包含大量的堿金屬元素(如Li、Na、K、Rb、Cs)、揮發(fā)性元素(如B、P、F、Cl),以及一些稀有元素。這些熔體包裹體中的雜質(zhì)元素會(huì )影響石英的化學(xué)純度,是一個(gè)主要的污染源。
        
        上述的晶格雜質(zhì)元素(晶格尺度)、亞微米級(100nm~1μm)和納米級(<100nm)包裹體,以及顯微包裹體(>1μm)是雜質(zhì)元素(如P、Ge、Ti、Al、Fe、B、K、Na、Li、Be等)在石英晶體內部基本的賦存形式。同時(shí),在石英晶體表面,可以附著(zhù)其他礦物微晶;在結晶巖中,石英會(huì )和其他礦物嵌布。
        
        現階段,經(jīng)研磨、分選、磁選、重選、電選、浮選、酸洗、酸浸、加熱、焙燒等礦物提純工藝,可以將石英晶體大部分的表面附著(zhù)微晶、與石英嵌布的礦物、以及石英晶體中大部分的顯微包裹體除去。但對于石英內部的雜質(zhì),如晶格雜質(zhì)元素、可能出現的亞微米級(<100nm)和納米級(100nm~1μm)包裹體、顯微包裹體(>1μm),現有手段難以將它們完全地除去,它們的存在將會(huì )極大地影響石英的化學(xué)純度和質(zhì)量。因此,石英晶體中晶格雜質(zhì)元素、亞微米級和納米級包裹體、顯微包裹體的數量和分布,是決定石英晶體能否成為高純石英的重要制約因素。詳細查明雜質(zhì)元素在石英晶體內部的賦存狀態(tài)、數量和分布特征,對于后續的礦物提純加工和探討其工業(yè)用途至關(guān)重要。
        
        資料來(lái)源:《楊曉勇,孫超,曹荊亞,施建斌.高純石英的研究進(jìn)展及發(fā)展趨勢[J].地學(xué)前緣:2021》,由【粉體技術(shù)網(wǎng)】編輯整理,轉載請注明出處!
        
        
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