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      技術(shù)進(jìn)展
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      超細碳酸鈣研磨及分散助劑的選擇
      來(lái)源:中國粉體技術(shù)網(wǎng)    更新時(shí)間:2015-06-30 11:54:18    瀏覽次數:
       
          (中國粉體技術(shù)網(wǎng)/班建偉)隨著(zhù)涂布技術(shù)的飛速發(fā)展, 對涂布顏料的要求越來(lái)越高, 特別是碳酸鈣研磨技術(shù)的迅速發(fā)展, 這就對碳酸鈣研磨設備和研磨專(zhuān)用分散劑的要求也日益提高。在國內, 涂布級研磨碳酸鈣市場(chǎng)的競爭也促進(jìn)了涂布顏料質(zhì)量的提高;首先是10年前的ECC公司和OMYA 公司在國內設廠(chǎng), 到現在的各大紙廠(chǎng)都上先進(jìn)的進(jìn)口設備;近幾年來(lái), 特別是CALLISTO公司的碳酸鈣研磨生產(chǎn)線(xiàn)項目在國內建成, 幫助紙廠(chǎng)的研磨碳酸鈣水平達到了一個(gè)新的高度, 使碳酸鈣涂料的質(zhì)量水平和成本控制成為市場(chǎng)競爭的要點(diǎn)。
          對涂布碳酸鈣的粒度要求隨工藝的改進(jìn)也越來(lái)越高, 特別是受歐洲高碳酸鈣配比的配方影響, 涂布級超細碳酸鈣的粒度分布從10年前的小于2μm達90%的要求, 發(fā)展到現在市場(chǎng)上經(jīng)常見(jiàn)到的98級, 甚至99級(即粒度小于2μm的達到98%, 甚至99% 以上); 更是有的廠(chǎng)家, 甚至嘗試全碳酸鈣配比的涂布配方, 這就要求更高品質(zhì)的研磨碳酸鈣, 要求碳酸鈣的粒徑分布盡量的窄, 小于1μm 達到90%以上;這就需要有更好的碳酸鈣研磨設備和研磨專(zhuān)用分散劑來(lái)保證這種超細碳酸鈣涂料質(zhì)量的穩定性。
      1 涂布對碳酸鈣的要求
          隨著(zhù)高速涂布技術(shù)的發(fā)展, 要求碳酸鈣具有超細的粒徑, 窄的粒度分布曲線(xiàn), 高的固含量和好的流變性。目前適合高質(zhì)量涂布要求的碳酸鈣漿料一般控制指標如下: 粒度2μm達到95%以上, 固含量不小于75% , 初始黏度不大于0.250Pas, 回黏度不大于 0.350Pa s(回黏度是指靜置1 h后檢測的黏度, 此數據對涂布的流變性影響很大) , pH = 9.0-9.5。
          超細研磨碳酸鈣, 現在一般是通過(guò)濕磨的方法,以漿料的形式供涂布廠(chǎng)家使用。特別是碳酸鈣的高白度、低成本、流變性好的優(yōu)點(diǎn), 促使各廠(chǎng)紛紛上馬碳酸鈣研磨項目。但真正做好超細碳酸鈣的研磨并不容易。首先, 研磨設備的選擇很重要, 它直接影響最終達到的粒度及粒徑分布, 并且對生產(chǎn)成本也有很大的影響。
          分散劑是否合適, 是影響碳酸鈣漿料質(zhì)量的另一重要因素。因為在如此高要求的固含量和粒度的情況下, 想降低碳酸鈣漿料的黏度, 并且使回黏度不至于過(guò)高而影響涂布, 就需要選擇合適的分散劑來(lái)達到這種要求。大家都知道, 碳酸鈣顆粒是通過(guò)研磨機內的研磨介質(zhì), 即陶瓷珠或鋯珠(成本高)高速旋轉碰撞而磨細的, 因此會(huì )產(chǎn)生高溫, 散發(fā)大量的熱, 這就需要選擇與常規分散劑不同的、適應高溫研磨的分散劑。
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