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      石墨烯“打底”,中科院沈陽(yáng)材料科學(xué)國家研究中心制備出高速晶體管
      來(lái)源:中國粉體技術(shù)網(wǎng)    更新時(shí)間:2019-11-04 16:10:19    瀏覽次數:
       
        日前,中國科學(xué)院金屬研究所沈陽(yáng)材料科學(xué)國家研究中心先進(jìn)炭材料研究部科研人員首次制備出以肖特基結作為發(fā)射結的垂直結構晶體管“硅—石墨烯—鍺晶體管”,成功將石墨烯基區晶體管的延遲時(shí)間縮短了1000倍以上,并將其截止頻率由兆赫茲(MHz)提升至吉赫茲(GHz)領(lǐng)域,未來(lái)將有望在太赫茲(THz)領(lǐng)域的高速器件中應用。該研究成果近日在《自然·通訊》上在線(xiàn)發(fā)表。
        
        1947年,第一個(gè)雙極結型晶體管(BJT)誕生于貝爾實(shí)驗室,引領(lǐng)了人類(lèi)社會(huì )進(jìn)入信息技術(shù)的新時(shí)代。過(guò)去的幾十年里,提高BJT的工作頻率一直是人們不懈的追求,異質(zhì)結雙極型晶體管(HBT)和熱電子晶體管(HET)等高速器件相繼被研究報道。然而,當需要進(jìn)一步提高頻率時(shí),這些器件便遭遇到瓶頸:HBT的截止頻率最終被基區渡越時(shí)間所限制,而HET則受限于無(wú)孔、低阻的超薄金屬基區的制備難題。
        
        近年來(lái),石墨烯作為性能優(yōu)異的二維材料備受關(guān)注,人們提出將石墨烯作為基區材料制備晶體管,其原子級厚度將消除基區渡越時(shí)間的限制,同時(shí)其超高的載流子遷移率也有助于實(shí)現高質(zhì)量的低阻基區。
        
        “目前已報道的石墨烯基區晶體管普遍采用隧穿發(fā)射結,然而隧穿發(fā)射結的勢壘高度嚴重限制了該晶體管作為高速電子器件的發(fā)展前景。”該研究團隊負責人表示。他們通過(guò)半導體薄膜和石墨烯轉移工藝,首次制備出以肖特基結作為發(fā)射結的垂直結構的硅—石墨烯—鍺晶體管。
        
        該研究人員表示,與已報道的隧穿發(fā)射結相比,硅—石墨烯肖特基結表現出目前最大的開(kāi)態(tài)電流和最小的發(fā)射結電容,從而得到最短的發(fā)射結充電時(shí)間,使器件總延遲時(shí)間縮短了1000倍以上,器件的截止頻率由約1.0MHz提升至1.2GHz。
        
        據悉,我國科研人員同時(shí)對器件的各種物理現象進(jìn)行了分析,并基于實(shí)驗數據建模發(fā)現了該器件具有工作于太赫茲領(lǐng)域的潛力,這將極大提升石墨烯基區晶體管的性能,為未來(lái)最終實(shí)現超高速晶體管奠定了基礎。
        
        來(lái)源:科技日報
        

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