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      前端技術(shù)
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      硅基電極性能首次達到碳基水平
      來(lái)源:中國粉體技術(shù)網(wǎng)    更新時(shí)間:2016-06-15 08:39:28    瀏覽次數:
       
          多年來(lái),能裝在芯片上的微小超級電容一直廣受科學(xué)家追捧,決定電容器性能的關(guān)鍵是其電極材料,有潛力的“選手”包括石墨烯、碳化鈦和多孔碳等。據德國《光譜》雜志網(wǎng)站近日報道,芬蘭國家技術(shù)研究中心(VTT)研究團隊最近把目光轉向了一種“不可能”的弱電材料——多孔硅,為了把它變成強大的電容器,團隊創(chuàng )新性地在其表面涂了一層幾納米厚的氮化鈦涂層,使其性質(zhì)得以改變。
        該團隊負責人麥卡·普倫尼拉解釋說(shuō),因化學(xué)反應導致的不穩定性和高電阻導致的低功率,不帶涂層的多孔硅本是一種極差的電容器電極材料。涂上氮化鈦的能提供化學(xué)惰性和高導電性,帶來(lái)了高度穩定性和高功率,且多孔硅有很大的表面積矩陣。
        根據荷蘭愛(ài)思唯爾出版集團《納米能源》雜志在線(xiàn)發(fā)表的論文,新電極裝置經(jīng)13000次充放電循環(huán)而沒(méi)有明顯的電容減弱。普倫尼拉說(shuō),報告數據受檢測時(shí)間的限制,而并非電極真實(shí)性能。他們繼續對其進(jìn)行充放電循環(huán),至今已達到5萬(wàn)次,甚至在循環(huán)中讓電極干燥,也沒(méi)有出現物理?yè)p壞或電學(xué)性能衰減問(wèn)題。“超級電容要求穩定地達到10萬(wàn)次循環(huán)。目前用多孔硅—氮化鈦(Si-TiN)做電極的電容裝置能完全穩定地通過(guò)5萬(wàn)次測試。”
        在功率密度和能量密度方面,新電極裝置比得上目前最先進(jìn)的超級電容器。目前由氧化石墨烯/還原氧化石墨烯制造的芯片微電容器功率密度為200瓦/立方厘米,能量密度為2毫瓦時(shí)/立方厘米,而新電極裝置功率密度達到214瓦/立方厘米,能量密度為1.3毫瓦時(shí)/立方厘米。普倫尼拉說(shuō),這些數字標志著(zhù)硅基材料首次達到了碳基和石墨烯基電極方案的標準。
        從電子產(chǎn)品的功率穩定器到局部能量采集存儲器,芯片超級電容器有著(zhù)廣泛的應用。普倫尼拉說(shuō),他們在整體設計中還存在一些難題,每單位面積電容仍需提高,要達到技術(shù)許可的最高水平,他們還需進(jìn)一步研究。


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