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ICP-AES 法測定金屬硅中雜質(zhì)元素

來(lái)源：冶金分析更新時(shí)間：2013-06-14 13:51:16 瀏覽次數：

攀枝花鋼鐵研究院成勇等以HF揮發(fā)除去基體后,電感耦合等離子體光譜法(ICP-AES)對金屬硅中Fe,Al,Ti,Ca,Cu,As,Pb等23個(gè)可能共存的雜質(zhì)元素同時(shí)定量測定,并用差減法計算出基體元素硅的含量,只需一次測定即能實(shí)現金屬硅樣品的全分析。試驗了共存元素間的干擾影響情況,優(yōu)選了元素分析譜線(xiàn)和儀器工作參數,運用同步背景校正法、K系數法來(lái)消除共存元素間干擾和試液霧化進(jìn)樣的物理化學(xué)因素影響。方法簡(jiǎn)便快捷、易于操作掌握,測定回收率、精密度、檢出限均取得了滿(mǎn)意結果。

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